一、光电子成果转化基地简介

2004年4月国家光电子成果转化及产业化基地批准西安工业大学挂牌成立“国家光电子成果转化基地—光电薄膜与器件研发服务中心”。中心依托“陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室”，围绕薄膜技术与微光电器件制造技术领域开展深入研究，积极跟踪国内外技术发展的最新动态，开展工程化研究与开发。目前，光电子成果转化基地同西安地区的光电子企业、公司有着广泛的技术合作，已经和企业（公司）成立三个相关的合作研究室或技术开发基地。

二、光电子成果转化基地主任简介

刘卫国，男，教授，博士生导师，1964年11月出生。1985年毕业于西安电子科技大学光电子技术专业，1988年获西安电子科技大学工学硕士学位，1995年获西安交通大学工学博士学位。长期从事光电子技术、电子材料的教学和研究工作， 2001年3月～2003年3月受聘于新加坡南洋理工大学担任助理教授，从事光电子材料的研究与教学工作。作为项目负责人承担过国防“973”、国防先进制造技术、国防预研基金等项目。2002年获国防科技进步三等奖，1999年获国防科技进步二等奖，1999年获教育部科技进步二等奖，1993年获国家科技进步二等奖，1996年入选国家人事部等七部委的“百千万人才工程”库，同年被破格晋升为教授，1997年被陕西省列为有突出贡献的中青年专家，1997年入选陕西省“三五”人才工程第二层次人选，被陕西省委、省政府命名为2003年度有突出贡献专家。先后在电子学报、物理学报、Applied Physics Letters、Solid State Communications 、Thin Solid Films、 Ferroelectrics、 Integrated Ferroelectrics等学术刊物上发表论文70余篇，其中被SCI收录29篇、引用80余次。现为西安电子科技大学、西北工业大学、陕西师范大学博士生导师，中国真空学会常务理事、陕西省真空学会副理事长、陕西省光电子协会副理事长、陕西省光学学会副理事长、陕西省显示技术学会副理事长。

三、研究成果

军民两用技术中心拥有两个研究方向：薄膜与等离子体技术和微光电器件制造技术及应用。研究内容隶属于光学工程学科的光学先进制造技术领域。两个研究方向的主要研究内容如下：

1、薄膜与等离子体技术研究方向

主要研究内容包括：类金刚石薄膜的制造与应用技术；红外光学薄膜制造技术；抗激光损伤薄膜制造技术；低损耗光学薄膜制造技术；薄膜制造过程中的（等）离子束发生与应用技术；超硬薄膜制造技术等。

1）类金刚石（DLC）薄膜制造技术及应用

2）等离子体与薄膜制造技术

(1)离子源和离子束辅助镀膜工艺技术。

(2)用于实现离子束辅助镀膜的关键装置——离子源。

(3)脉冲真空电弧离子镀膜机。

(4)高精度薄膜厚度控制装置。

2、微光电器件制造技术及应用研究方向

主要研究内容包括：常温热成像材料与器件的微制造、检测、应用技术；多功能传感器集成制造技术；纳米材料与器件；低维聚合物制备与改性； MEMS与MOEMS工艺技术及其在光学元件制造中的应用。

目前实验室拥有科研用房面积约为3200平方米，包括光学镀膜室（拥有光学镀膜机8台）、超硬薄膜室（拥有磁控溅射、电弧镀等制造设备4台）、微光电器件制造室（拥有约450平方米的洁净室和光刻机、PECVD装置、等离子体刻蚀机、真空镀膜机、引线键合机等大型设备）、光电特性检测室等，其中30万元以上的大型设备有19台，100万元以上设备有4台。实验室在高精度光学薄膜研发和检测方面的装置已经达到了国际先进水平，微光电器件制造与检测方面的装置已经达到了国内先进水平。